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    大產能激光消融設備 ABLATION

    [時間:2015-04-22 瀏覽次數:9958]

    大產能激光消融設備 ABLATION

      應用領域

      激光消融是一種在高效太陽能電池的制備中,對晶體硅太陽能電池背面鈍化層介質膜進行激光開孔。因為不再把鋁直接淀積在硅的背面。而是淀積AL2O3/SiN介質層,然后用激光選擇性開孔,最后是鋁絲網印刷,燒結形成穿過孔洞的局部背場(BSF)接觸,最大程度減少了背面金屬接觸面積及橫向電阻,使金屬與半導體界面的高速復合區域較少,從而提高了短路電流和開路電壓。

      產品特點

      點直徑:30-50um

      適用硅片:單晶、多晶156.5x156.5(6”) 、125x125(5”);

      設備產能:3600W/H(實線或虛線);

      破片率:< 0.05%

      激光源采用納秒或皮秒

      Buffer緩沖系統,花籃buffer緩沖10片

      CCD成像系統自動校準

      配備氣動和過濾裝置

      自動裝載上下料

      穩定性好可保證長效運行時間

      兼容50片與100片花籃;

      高效除塵系統,后期免清洗

      7-24正常運行

      易于操作

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